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Aridus3
膜去溶雾化系统

Aridus3 膜去溶雾化系统选用低流量、微量雾化器,只需极低量样品就能分析所有元素,同时系统全部选用PFA惰性材料,可运用于含HF酸的样品,独特的废液反抽工艺进一步增进了平稳性。

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更新时间:2021-06-25
PRODUCT OVERVIEW

商品描述

Aridus3 膜去溶雾化系统选用低流量、微量雾化器,只需极低量样品就能分析所有元素,同时系统全部选用PFA惰性材料,可运用于含HF酸的样品,独特的废液反抽工艺进一步增进了平稳性。

technical parameters

工艺参数

  • 可移动的模块化膜去溶构思,拆装和清洗方便

  • 带盖保护的PFA雾化室,避免静电干扰

  • 特有膜去溶工艺,有效减少溶剂对ICP-MS的干扰,显著降低氧化物和氢化物水平

  • 大大改善信号的平稳性,即使是有机溶剂(如甲醇)

  • 增进ICP-MS的灵敏度4-10倍以上

  • 可选配QuickWash3清洗装置,有效抑制记忆效应

  • 选用质素流量控制器(MFC)精准控制气体流量

  • 可经由Aridus Link软件远程控制加热温度和气体流速

  • 实验完成后可启动气体自动关闭程序,大大节约氩气成本

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